专利成果

一种用于裂变径迹化学蚀刻的设备及方法

授权号:ZL201710045131.5

授权日期:2019-06-21 00:00:00

申请号:201710045131.5

发明作者:吴航,吴世祥,邱楠生,常健,刘帅,肖瑶

专利状态:专利终止

专利类型:发明专利

专利名称:一种用于裂变径迹化学蚀刻的设备及方法