一种用于裂变径迹化学蚀刻的设备及方法
授权号:ZL201710045131.5
授权日期:2019-06-21 00:00:00
申请号:201710045131.5
发明作者:吴航,吴世祥,邱楠生,常健,刘帅,肖瑶
专利状态:专利终止
专利类型:发明专利
专利名称:一种用于裂变径迹化学蚀刻的设备及方法