授权号：ZL201810476287.3

授权日期：2020-06-09 00:00:00

申请号：201810476287.3

发明作者：肖立志,孙哲,廖广志,李新,罗嗣慧

专利状态：专利授权

专利类型：发明专利

专利名称：高磁场强度、高均匀度核磁共振磁体结构及测量装置